匀胶铬版
产品介绍
匀胶铬版是在高洁净度的基版上，利用直流磁控溅射技术，沉积上氮氧化铬-氮化铬-氮氧化铬薄膜，再利用spin涂覆匀胶技术涂上一层光刻胶制作而成，是微细加工光掩膜版制作的感光材料。主要应用于：
新型平板显示器件（LCD-STN、LCD-CSTN、LCD-TFT、CF、OLED、TP、PDP等）
集成电路（LSI、VLSI及TR、Discrete Devices、LED、MEMS、IC-Bumping）
精细光学行业（光学器件、编码器、校正板、光栅）
线路板相关（PCB-HDI、FPC、Lead Frame）
产品实物
产品应用领域
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