COMPANY PROFILE

公司概况

湖南普照信息材料有限公司是中国国内目前唯一一家高 水平掩膜基版材料（匀胶铬版）研发、生产与销售的专业厂家。

公司创立于2003年8月，位于长沙国家高新区麓枫路40号，注册资本金94205万元，是湖南能源集团有限公司旗下企业。

公司采用当前世界最先进生产、检测设备以及工艺技术，结合公司独创技术，建成能够生产75×75mm至700×800mm各种规格的溅射匀胶铬版生产线，产品广泛应用于新型平板显示器件、集成电路、精细光学、线路板、微纳加工及激光防伪等多种产业的光掩膜制作。

掩膜基版是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料（相当于照相用的感光胶卷）。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂（又称光刻胶）或电子束抗蚀剂制成掩膜基版。掩膜基版具有高感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨、易清洗、使用寿命长等优点。当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP等产品掩膜版的制作，作为图形转换的必须载体，掩膜基版的前景相当广阔。

公司掩膜基版项目投产以前，国内市场被国外厂商垄断，市场的需求主要依赖进口，尤其是大版，国内几乎不能供应，小版虽然能供应一部分，也都是低档品。国外厂商利用其垄断地位，取得对市场的定价权，掩膜基版售价一直居高不下，对国内集成电路和平板显示行业的发展带来了极大的负面影响。

公司在国外技术封锁的巨大压力下，通过自主研发，不断克服技术和品质问题，掩膜基版项目量产后，极大的缓解了国内掩膜厂商对掩膜基版的需求，打破了国外厂商对行业的垄断，填补国内空白，各种规格掩膜基版的市场价格大幅下降，并出口韩国、日本、美国、德国、台湾、香港等国家和地区，取得了良好的社会效益，2008年10月公司掩膜基版项目被国家发改委授予“国家高技术产业化十年成就奖”，全国获此奖项的仅100个高技术项目，充分肯定了公司在行业内的作用和地位。