企业概况

       湖南普照信息材料有限公司是中国国内目前唯一一家高水平掩膜基版材料（匀胶铬版）研发、生产与销售的专业厂家。   
       公司创立于2003年8月，位于长沙国家高新区麓枫路40号，注册资本金10596.53万元，由湖南电子信息产业集团有限公司全资控股。
       公司从国外引进掩膜基版生产各项工艺设备及检测仪器，其中的玻璃抛光、基板清洗、磁控溅射镀膜及匀胶等关键技术均由公司组织技术人员进行研究开发、设计并实施，至今已能够生产2.5"×2.5"－700mm×800mm各种规格100多个品种的掩膜基版。
       掩膜基版是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料（相当于照相用的感光胶卷）。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂（又称光刻胶）或电子束抗蚀剂制成掩膜基版。掩膜基版具有高感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨、易清洗、使用寿命长等优点。当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP等产品掩膜版的制作，作为图形转换的必须载体，掩膜基版的前景相当广阔。
       公司掩膜基版项目投产以前，国内市场被国外厂商垄断，市场的需求主要依赖进口，尤其是大版，国内几乎不能供应，小版虽然能供应一部分，也都是低档品。国外厂商利用其垄断地位，取得对市场的定价权，掩膜基版售价一直居高不下，对国内集成电路和平板显示行业的发展带来了极大的负面影响。
       公司在国外技术封锁的巨大压力下，通过自主研发，不断克服技术和品质问题，掩膜基版项目量产后，极大的缓解了国内掩膜厂商对掩膜基版的需求，打破了国外厂商对行业的垄断，填补国内空白，各种规格掩膜基版的市场价格大幅下降，并出口韩国、日本、美国、德国、台湾、香港等国家和地区，取得了良好的社会效益，2008年10月公司掩膜基版项目被国家发改委授予“国家高技术产业化十年成就奖”，全国获此奖项的仅100个高技术项目，充分肯定了公司在行业内的作用和地位。